上海微电子 28nm光刻机
市场营销 / 2024-08-20
1. 28nm光刻技术的概述 28nm光刻技术是一种先进的微电子制造技术,被广泛应用于芯片制造中。光刻机是其中的核心设备之一,它通过使用光学技术将芯片设计图案转移到硅片上,实现芯片的制造。28nm光刻机是指能够实现28纳米制程的光刻机,其具有高分辨率、高精度和高效率等特点。 2. 28nm光刻机的工作原理 28nm光刻机的工作原理主要包括掩模制作、光刻曝光和显影等步骤。通过掩模制作将芯片设计图案转移到掩模上。然后,将掩模放置在光刻机的曝光系统中,利用光源照射掩模,通过透镜系统将图案投射到硅片上